每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：年报显示上海新阳集成电路制造用高端光刻胶系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子光刻系列产品。包括 I 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜（BARC）等配套材料。 请问：光刻胶稀释剂、底部抗反射膜（BARC）是否为完成研发新产品？
上海新阳（300236.SZ）5月10日在投资者互动平台表示，光刻胶稀释剂、底部抗反射膜（BARC）属于光刻胶配套材料，公司处于实验室研发阶段。
(记者 毕陆名)
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