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    南大光电:公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点

    每日经济新闻 2021-06-11 17:46

    每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:请老师核实一下,贵司研发的ArF光刻胶按照贵司的公告,是否可以用于7nm芯片的生产?贵司现在是否拿到14nm或者28Nm芯片生产商去认证呢?

    南大光电(300346.SZ)6月11日在投资者互动平台表示,感谢您的关注!公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点。具体客户验证进展请关注公司相关信息披露。

    (记者 周宇翔)

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