每经编辑|彭水萍
半导体设备板块今日领跑,海外AI算力回调与A股半导体企稳形成对照。更值得关注的是,SEMI预测2026年全球半导体设备销售额达1659亿美元,同比增长23.2%,长鑫IPO募资666亿元落地、长江存储拟募资330亿元推进,设备板块的定价锚正从“库存周期修复”转向“资本开支上修+两存扩产融资共振+低国产化率替代”的结构扩张。
半导体设备ETF国泰(159516)标的指数涨超5%,跟踪中证半导体材料设备主题指数,覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗、量测检测、测试、封装等关键设备标的,是把握本轮设备周期的核心工具。
2026全球设备销售额预计1659亿美元、同比增23.2%:资本开支上修如何传导至前道设备?
SEMI预测2026年全球半导体设备销售额1659亿美元、同比增长23.2%,2028年进一步增至2295亿美元;其中晶圆制造设备2026年预计1439亿美元,2027年继续增长21.8%。全球AI资本开支持续扩张,先进逻辑、DRAM、HBM及先进封装产能建设成为设备需求主线。
AI训练与推理需求推动先进逻辑、存储和先进封装同步扩产。台积电2026年资本开支指引上调至600亿美元~640亿美元,美光2026财年资本开支约274亿美元,SK海力士、三星也公布中长期大规模投资计划,头部厂商扩产使前道设备需求兼具产能扩张与工艺升级双重驱动。
资本开支向存储与晶圆代工集中,前道设备受益更直接。国盛证券测算,2026年存储、晶圆代工资本开支预计分别达903亿美元、722亿美元,同比增速约30.7%、29.9%,二者合计占全球资本开支比重由2024年的64.5%提升至2026年的81.3%,刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP及量检测等环节接续受益。
前道设备价值量集中,工艺升级抬升单线设备配置。前道设备中光刻、薄膜沉积、刻蚀价值量占比分别约20%、23%、22%,合计约65%;器件三维化、存储堆叠层数提升使沉积、刻蚀步骤增加,薄膜一致性、高深宽比加工及缺陷控制要求同步提高。
长鑫IPO募资666亿元、长江存储拟募330亿元:两存扩产与融资共振如何接续设备采购?
长鑫科技IPO募资总额666亿元、净额663亿元,长江存储IPO拟募资330亿元。盈利改善与融资落地共同夯实“两存”资本开支的资金基础。
存储涨价推动盈利与现金流显著改善,内部资金积累增强。长鑫2026H1归母净利润达776亿元,经营现金流净额达1312亿元;长江存储2026Q1归母净利润334亿元,经营现金流净额267亿元,单季利润已达2025年全年的2.35倍,扩产资金来源不再单一依赖外部融资。
IPO融资与募投项目推进为扩产提速提供增量资金。长鑫募资净额663亿元,长江存储拟募资330亿元,其中量产线技术升级及研发项目占主要部分;2023年~2025年长鑫资本开支分别为437亿元/712亿元/497亿元,长江存储分别为213亿元/310亿元/362亿元,后续产线升级与新增建设有望接续释放设备采购。
新增产线建设、技术升级及设备导入将接续拉动前道设备需求。两存扩产不仅带来新增产能设备采购,现有产线技术升级也会带动刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP及量检测设备导入,国产设备由单点突破走向多工艺覆盖,重复订单与量产验证成为替代深化的关键。
资料来源:IC Insights、创芯网,国盛证券研究所
国产化率仅23%、量检测不足5%:设备从单点突破走向多工艺覆盖,替代弹性在哪里?
2025年中国大陆半导体设备市场规模约493亿美元、占全球36%,但整体国产化率约23%,仍处较低水平。量检测设备全球由KLA等海外厂商主导,涂胶显影由东京电子占据主要份额,射频电源、静电卡盘等高端功能部件国产化率同样偏低。
前道设备国产化已从单点突破走向多工艺覆盖。刻蚀、清洗国产化率已提升至50%以上,CMP、热处理达到30%~40%,但光刻设备国产化率不足1%、量测检测不足5%、涂胶显影近乎空白,高端SoC及存储测试机国产化率仅8%~10%,低国产化率环节的替代弹性更突出。
量检测是存储扩产周期中确定性较强的低国产化环节。量检测约占晶圆制造开支的13%,2025年全球市场规模191亿美元、中国大陆45亿美元;KLA、应用材料、日立高新在中国大陆市占率分别约58.2%、12.5%、8.3%,前三合计79%,国内厂商在明场/无图形缺陷检测、关键尺寸量测等环节正加快客户导入。
零部件国产替代由基础结构件向高附加值功能部件延伸。2025年全球/中国大陆半导体零部件市场规模约743亿美元/271亿美元,金属工艺件、结构件、气路模组等已基本形成国产配套,但MFC、射频电源、静电卡盘等高端功能部件仍以海外为主,具备工艺适配、可靠性和稳定交付能力的国内厂商有望受益于批量供货与份额提升。
半导体设备ETF国泰(159516):用指数工具承接“资本开支上修+两存扩产+国产替代”三重共振
半导体设备ETF国泰(159516)跟踪中证半导体材料设备主题指数,覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗、量测检测、测试、封装等关键设备标的,可作为把握本轮设备结构扩张的指数化工具。
三重共振使设备板块的β属性更清晰。全球资本开支上修提供需求总量,两存IPO融资与扩产提供国内增量,低国产化率提供替代空间,三者共同支撑设备板块从“周期修复”走向“结构扩张”。
指数化布局可分散技术路线与客户验证风险。半导体设备产业链细分方向多、个股技术路线差异大、客户验证节奏不一,ETF通过指数化布局分散单一公司技术迭代和客户验证风险,同时保留板块整体弹性。
注:提及个股仅用于行业事件分析,不构成任何个股推荐或投资建议。指数等短期涨跌仅供参考,不代表其未来表现,亦不构成对基金业绩的承诺或保证。观点可能随市场环境变化而调整,不构成投资建议或承诺。提及基金风险收益特征各不相同,敬请投资者仔细阅读基金法律文件,充分了解产品要素、风险等级及收益分配原则,选择与自身风险承受能力匹配的产品,谨慎投资。
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