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有研新材:集成电路用高纯溅射靶材二期扩建项目投资4.86亿元

每日经济新闻 2026-07-30 16:51

每经AI快讯,7月30日,有研新材(600206.SH)公告称,公司计划投资4.86亿元建设集成电路用高纯溅射靶材二期扩建项目,新增高纯铜系靶、钽靶、钛靶产能3万块/年,项目计划于2026年9月启动,2027年9月投产。

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