每经AI快讯，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。（科技日报）
上一篇
郑智化吐槽“连滚带爬进飞机” 深圳机场致歉
下一篇
西安一保时捷行驶途中突然起火，车被烧成空架，“车辆未涉及碰撞”！专家：新能源车火灾发生概率与燃油车相差不大，但强度更高
每日经济新闻客户端
National Business Daily Mobile Version
“机器人男友”“赛博伴侣”即将上线！令人心动的机器人背后：技术可以狂奔，但社会心理的准备需要时间
大疆起诉影石：“全盘照搬地剽窃技术与设计！”影石反诉
城市轨交里程5月排名出炉
每日经济新闻客户端