每经AI快讯，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。（科技日报）
上一篇
郑智化吐槽“连滚带爬进飞机” 深圳机场致歉
下一篇
西安一保时捷行驶途中突然起火，车被烧成空架，“车辆未涉及碰撞”！专家：新能源车火灾发生概率与燃油车相差不大，但强度更高
每日经济新闻客户端
National Business Daily Mobile Version
规模冲刺3万亿元、渗透率将超58%！金融AI爆发前夜，这三类风险不容忽视
低空经济“百县榜”发布：县域低空经济区域梯度差异明显，中西部空域禀赋充裕，东部产业链配套完善
“十五五”时期金融工作重点有哪些？央行、金融监管总局、中国证监会、国家外汇局最新发声
每日经济新闻客户端