每经记者 刘明涛 每经编辑 彭水萍
今日A股低开后快速反弹,创业板指、科创50一度涨逾3%,午前各大指数均出现一定回落,截至上午收盘,上证指数涨0.73%报2979.56点,深证成指涨1.65%报9196.71点,创业板指涨1.79%报1780.22点,科创50指数涨2.35%报789.76点,北证50指数涨1.07%。市场半日成交额6746.3亿元,北向资金实际净买入126.98亿元。
流动性方面,央行公告称,为维护月末流动性平稳,2月29日以利率招标方式开展1170亿元7天期逆回购操作,中标利率为1.8%。Wind数据显示,当日有580亿元逆回购到期,因此单日净投放590亿元。
消息面,2月29日,国家统计局发布《中华人民共和国2023年国民经济和社会发展统计公报》称,初步核算,2023年国内生产总值1260582亿元,同比增长5.2%,最终消费支出拉动国内生产总值增长4.3个百分点,资本形成总额拉动国内生产总值增长1.5个百分点,货物和服务净出口向下拉动国内生产总值0.6个百分点。
英伟达最新高端H200芯片将于第二季开始出货,四大云端服务供应商积极争抢,以因应庞大的AI运算需求,Google主力代工厂广达首批搭载该款AI芯片的AI服务器已开案,预计第三季完成后段测试并量产。
板块方面,半导体产业链爆发,光刻机方向领涨,奥普光电、福晶科技、亚翔集成、柏诚股份等涨停,氢能源概念表现活跃,新动力、国林科技、洪涛股份也纷纷涨停。高位股退潮,国脉文化跌停,华研精机、克劳斯、华扬联众等大跌。
光刻机是半导体制造的核心设备,其性能直接决定了芯片的工艺水平,开发难度大,价值量高,市场规模可观,目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类;分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标,其中,分辨率直接决定制程,极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求,是光刻机最重要的指标,而套刻精度影响良率,产率影响光刻机的产能及经济性。此外,多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程,应用较为广泛。
在全球半导体产业持续扩张的趋势下,光刻机市场规模长期可观;此外,光刻机开发难度大,产业垄断性强,是海外对华半导体制裁的重灾区,直接影响国内半导体产业先进制程的发展,因此光刻机自主突破的重要性尤为凸显,光刻机国产产业链颇具潜力。
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1、新莱应材
半导体零部件的国产化落地已然进入攻坚期和深水区,公司在该赛道深耕多年地位显著,叠加产品品类扩张有望打开全新空间。(华福证券)
2、奥普光电
奥普光电近年通过“长光所体外孵化+上市公司外延并购”的模式实现快速发展。航天复材需求旺盛,高精度光栅尺和编码器、工业级CMOS图像传感器深度受益国产替代,公司进入业绩拐点。(华西证券)
3、上海新阳
公司自主研发的KrF光刻胶持续通过认证客户,已在国内主流晶圆制造厂商处实现供货,ArF光刻胶目前处于客户端认证阶段。抛光液方面,目前已有成熟的SiO2体系的抛光液成功进入客户端,实现销售,CeO2体系的部分产品已在客户产线上线测试,性能良好,公司的第二、第三成长曲线正逐步成型。(开源证券)
4、艾森股份
公司立足于传统封装领域电镀液及配套试剂,已占据国内传统封装用电镀液及配套试剂的主力供应商地位,并沿着产业链向其他应用领域发展,已逐步覆盖被动元件、PCB、先进封装、晶圆制造、光伏等领域的电镀工艺环节,同时通过光刻胶及配套试剂产品切入光刻环节,相关产品将进一步提高公司产品线覆盖的广度,成长空间进一步打开,营收规模有望继续扩大。(平安证券)
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