苏大维格：可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案

苏大维格（300331.SZ）12月10日在投资者互动平台表示，公司激光直写光刻系列设备，可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案，包括微纳光学材料、MEMS产品、射频器件、滤波器件等产品的研发与制造，也可为今后裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片等研发和制备等方面，提供前沿性和实用性纳米光刻工具。公司相关设备收入占比较低，请注意风险，详细情况您还可参见公司定期报告、官方网站、官方微信公众号等相关信息，同时提请您注意相关技术推广与应用过程中存在的不确定风险

(记者 蔡鼎)

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