新三板创新层公司原子高科新增专利信息授权：“一种制备α仪表刻度源的电沉积装置”

每经讯，据启信宝，新三板创新层公司原子高科（430005）新增专利信息，专利权人为原子高科，发明人是刘明阳、付轲新、任春侠、陈伊婷、李翔、焦华洁、高岩、王巍。专利授权日为2023年10月31日，专利名称为“一种制备α仪表刻度源的电沉积装置”，专利类型为中国实用新型专利，专利申请号为CN202321193031.4。

该专利摘要显示：本实用新型公开了一种制备α仪表刻度源的电沉积装置，包括导电底座和置于导电底座上的电沉积槽；其包括上下中心对称设置的第一、第二槽体，第一、第二槽体内部相贯通，第一槽体顶部和第二槽体底部均设开口；每个开口内均由外到内通过底盖依次安装阴极垫片、电沉积源片和垫圈，阴极垫片的阴极导出端穿过底盖且伸出底盖一段距离；第一、第二槽体内均通过阳极丝固定部件固定有阳极丝，阳极丝置于对应槽体内且平行于对应槽体内的电沉积源片；导电底座上设有供阴极导出端插入的阴极凹槽，阴极凹槽通过导线与直流稳压电源负极相连。本实用新型可实现电沉积液不需要倒出，只需翻转电沉积槽，即可实现电沉积液的循环使用，提高电沉积效率。

(记者 曾健辉)

免责声明：本文内容与数据仅供参考，不构成投资建议，使用前核实。据此操作，风险自担。