每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：公司生产的光刻胶是否可以用于纳米压印，是否具备相关技术储备？
南大光电（300346.SZ）9月15日在投资者互动平台表示，公司正在研发和产业化的ArF光刻胶，主要用于28nm-90nm技术工艺的集成电路芯片制造。
(记者 毕陆名)
免责声明：本文内容与数据仅供参考，不构成投资建议，使用前核实。据此操作，风险自担。
1本文为《每日经济新闻》原创作品。
2 未经《每日经济新闻》授权，不得以任何方式加以使用，包括但不限于转载、摘编、复制或建立镜像等，违者必究。
每日经济新闻客户端