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事关安世半导体,商务部最新发声!
每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:小批量量产的光刻胶最多可以用于几nm芯片生产工艺?
南大光电(300346.SZ)9月1日在投资者互动平台表示,目前通过客户验证的ArF光刻胶主要应用于存储芯片50nm和逻辑芯片55nm生产工艺。
(记者 毕陆名)
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