每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:小批量量产的光刻胶最多可以用于几nm芯片生产工艺?
南大光电(300346.SZ)9月1日在投资者互动平台表示,目前通过客户验证的ArF光刻胶主要应用于存储芯片50nm和逻辑芯片55nm生产工艺。
(记者 毕陆名)
免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。
1本文为《每日经济新闻》原创作品。
2 未经《每日经济新闻》授权,不得以任何方式加以使用,包括但不限于转载、摘编、复制或建立镜像等,违者必究。
上一篇
青岛中程:公司印尼子公司BMU与MSS已于2023年6月签订镍矿买卖协议
下一篇
恒泰艾普:证券简称自9月4日起变更为“新锦动力”
每日经济新闻客户端
National Business Daily Mobile Version
2026年上半年全球人形机器人出货量增超4倍;英伟达发布AI智能体安全工具|数智早参
伊朗称波斯湾已无美军舰船;美油跌近4%;美联储理事:可能需要继续加息;最高省近5万,居民房贷贴息政策明起实施;OpenAI致歉丨每经早参
下半年第4次“地量见地价”,A股成交额仅1.42万亿元!前3次有这些规律