每经AI快讯，晶盛机电近期在机构调研中指出，公司成功研发出具有国际先进水平的 8 英寸单片式碳化硅外延生长设备，引领国内碳化硅行业技术升级。目前公司在 8 英寸衬底基础上，已实现 8 英寸单片式碳化硅外延生长设备的自主研发与调试，外延的厚度均匀性 1.5%以内、掺杂均匀性 4%以内，已达到行业领先水平,这是公司在第三代半导体设备领域的又一次重要技术突破。 （每日经济新闻）
上一篇
北京市劳动人民文化宫：园区内禁止商业性拍摄活动
下一篇
五粮液与华南理工大学校企战略合作签约暨捐赠仪式在羊城举行
每日经济新闻客户端
National Business Daily Mobile Version
华人文化拟入局ST华谊，黎瑞刚有望成为实控人
每经热评 | 楼市释放三大稳定信号，让二手房顺畅“转”起来是存量时代关键
起售价不足19万元！方程豹第三产品系列双车上市 熊甜波：价格不玩套路
每日经济新闻客户端