每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：请老师普及一下光刻胶缺陷检测分析仪器的难度？这个比光刻机，刻蚀机还难吗？
南大光电（300346.SZ）11月25日在投资者互动平台表示，缺陷检测分析仪器主要应用于28nm以下工艺节点的光刻胶检测，目前国内仍在研制中，尚无可商用的设备。
(记者 蔡鼎)
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