苏大维格：在光刻机关键器件方面，公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件

每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问： 尊敬的董秘，您好！苏大维格官网显示，iGrapher系列设备已用于4寸～8寸MEMS制备、17寸-65寸精密电路制备的工业应用。请问贵公司的光刻设备能否用于精密电路和MEMS的大规模制备?有没有提供给PCB或者MEMS制造厂商？

苏大维格（300331.SZ）3月21日在投资者互动平台表示，公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造。公司光刻设备整机除自用及向国内外高校及科研院所销售外，2021年开始向企业拓展，并成功实现了对半导体领域企业的销售；在光刻机关键器件方面，公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件。

(记者 尹华禄)

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