每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：公司是否承担了江苏省关键核心技术攻关项目“面向IC掩膜版和微纳光学器件制备的高精度直写光刻设备”的研发？IC掩膜版与公司已研发成功的OLED掩膜版有何不同？项目进展如何？
苏大维格（300331.SZ）3月21日在投资者互动平台表示，根据公司与相关单位之间的保密约定，相关信息不便披露。此外，现阶段公司主要在AMOLED用镂空掩模版领域进行了技术研发与布局，目前相关技术处于进一步研发阶段。
(记者 姚祥云)
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