苏大维格：制造手机芯片的芯片用光刻机为极紫外投影光刻机，目前暂不涉及此类光刻机的整机制造

每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：董秘好！贵公司光刻机出来后盈利能力也没有实质性进展 ，说明还是低端设备，现金流一直处于比较紧张状态。请问贵公司光刻机在手机芯片上的应用有没进展？

苏大维格（300331.SZ）2月16日在投资者互动平台表示，制造手机芯片的芯片用光刻机为极紫外投影光刻机，这类光刻机技术工艺和材料难度极高，公司目前暂不涉及此类光刻机的整机制造；在关键器件方面，公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅尺部件。 公司长期从事激光直写光刻机的研制，尤其在用于新一轮光子传感器的纳米光刻机研制领域积累了丰富且较为完善的技术经验，可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案。近年来，在光刻机整机方面，公司光刻设备除自用外，以往年份主要向国内外高校及科研院所销售，2021年开始向企业拓展，并成功实现了对半导体领域企业的销售，且正在积极拓展直写光刻大规模的产业化应用，例如在光伏等泛半导体等领域方面的应用。

(记者 毕陆名)

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