每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:公司中报披露贵公司承担了江苏省关键核心技术攻关项目“面向IC掩膜版和微纳光学器件制备的高精度光刻直写设备”中的IC掩膜版,是集成电路光刻机用掩膜版吗?项目进展的怎么样了?
苏大维格(300331.SZ)9月9日在投资者互动平台表示,您好,现阶段,公司主要在AMOLED用镂空掩模版领域进行了技术研发与布局。谢谢!
(记者 蔡鼎)
免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。
1本文为《每日经济新闻》原创作品。
2 未经《每日经济新闻》授权,不得以任何方式加以使用,包括但不限于转载、摘编、复制或建立镜像等,违者必究。