每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：董秘您好！贵司用于半导体清洗行业的高浓度臭氧水设备的核心技术取得突破？请问：1.该技术是否适应第三半导体领域？2.该技术是否适应于半导体光刻胶产品领域？谢谢！
国林科技（300786.SZ）8月23日在投资者互动平台表示，尊敬的投资者，您好。公司高浓度臭氧水设备可用于半导体光刻胶清洗。感谢您的关注。
(记者 周宇翔)
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