国林科技:公司高浓度臭氧水设备可用于半导体光刻胶清洗

    每日经济新闻 2021-08-23 12:01
    环保设备 山东省 国林科技 +0.9%

    每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:董秘您好!贵司用于半导体清洗行业的高浓度臭氧水设备的核心技术取得突破?请问:1.该技术是否适应第三半导体领域?2.该技术是否适应于半导体光刻胶产品领域?谢谢!

    国林科技(300786.SZ)8月23日在投资者互动平台表示,尊敬的投资者,您好。公司高浓度臭氧水设备可用于半导体光刻胶清洗。感谢您的关注。

    (记者 周宇翔)

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