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    南大光电:公司研发的ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺

    每日经济新闻 2021-08-06 18:25

    每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:请问贵公司,公司产不产光刻胶,用于那些地方?请回答

    南大光电(300346.SZ)8月6日在投资者互动平台表示,感谢您的关注!公司研发的ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造。

    (记者 周宇翔)

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