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    南大光电:公司研发和产业化的ArF光刻胶可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点

    每日经济新闻 2021-03-26 15:51

    每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:董秘您好,请问公司光刻胶产品是否量产,公司研发的193纳米光刻胶,对应芯片制程最高是28纳米还是14纳米?

    南大光电(300346.SZ)3月26日在投资者互动平台表示,感谢您的关注!公司ArF光刻胶尚未形成规模量产。 公司研发和产业化的ArF光刻胶可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点。

    (记者 易启江)

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