每日经济新闻

南大光电:公司研发和产业化的ArF光刻胶可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点

每日经济新闻 2021-03-26 15:51

每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:董秘您好,请问公司光刻胶产品是否量产,公司研发的193纳米光刻胶,对应芯片制程最高是28纳米还是14纳米?

南大光电(300346.SZ)3月26日在投资者互动平台表示,感谢您的关注!公司ArF光刻胶尚未形成规模量产。 公司研发和产业化的ArF光刻胶可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点。

(记者 易启江)

免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。

版权声明

1本文为《每日经济新闻》原创作品。

2 未经《每日经济新闻》授权,不得以任何方式加以使用,包括但不限于转载、摘编、复制或建立镜像等,违者必究。

上一篇

世华科技:公司及全资子公司获得政府补助共计约1118万元

下一篇

日禾戎美股份有限公司4月2日首发上会



分享成功
每日经济新闻客户端
一款点开就不想离开的财经APP 免费下载体验