每经编辑 周宇翔
上海新阳3月11日晚间公告,近日,参股公司芯刻微公司(上海新阳持有芯刻微38%的股权)委托盛吉盛(宁波)半导体材料有限公司代理投标,成功中标购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。
公告称,3月11日,芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机,剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。
上海新阳表示,公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障,对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,加速落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。
本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施,若以上环节出现工作疏漏或失误则存在造成所购买的光刻机投入使用的过程较长甚至无法投入使用的风险。
公告称,光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大,质量要求最高,开发周期长,且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。因此,存在着研发失败和研发计划滞后的风险,提醒投资者注意投资风险。
值得注意的是,这不是上海新阳近期第一次发布有关光刻机的信息。本月初,上海新阳曾公告称,此前购买的一台二手光刻机进入到合作方场地。
上海新阳今年3月8日曾发布公告,公司自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。该光刻机设备已于公告当天进入合作方场地。
而根据此前上海新阳在投资者互动平台上的答复,上述ASML-1400光刻机同样为二手设备,购买价格约1亿元。
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